SV1-10/8/315/6 伺服閥 EMG 德國 原裝正品
位置反饋式伺服閥是指二級滑閥式位置反饋伺服閥結構。由電磁部分,控制滑閥和主滑閥組成。直接位置反饋型電液伺服閥的主閥心與導閥心構成直接位置比較和反饋。以滑閥作前置級的優點是功率放大系數大,適合于大流量控制。其缺點是滑閥閥心受力較多、較大,因此要求驅動力大;由于摩擦力大,使分辨率和滯環增大;因運動部分質量大,動態響應慢;公差要求嚴,制造成本高
上述工作過程中,動圈的位移量,一級閥心(導閥心)的位移量與主閥心的位移量均相等。因動圈的位移量與輸入信號電流成正比,所以輸出的流量和輸入信號電流成正比。設計時,將主閥心兩端容腔看成為驅動主閥心的對稱雙作用液壓缸,該缸由先導閥供油,以控制主閥心上下運動。由于導閥心直徑小,加工困難,為了降低加工難度,可將先導閥上用于控制主閥心上下兩腔的進油閥口由兩個固定節流孔代替,這樣先導閥可看成是由兩個帶固定節流孔的半橋組成的全橋。
電液伺服閥是電液伺服控制中的關鍵元件,它是一種接受模擬電信號后,相應輸出調制的流量和壓力的液壓控制閥。電液伺服閥具有動態響應快、控制精度高、使用壽命長等優點,已廣泛應用于航空、航天、艦船、冶金、化工等領域的電液伺服控制系統中。
液壓伺服閥是構建液壓伺服控制系統的核心元件,因此液壓控制系統書籍會包含電液伺服閥內容
產品簡介
電液伺服閥是電液伺服控制中的關鍵元件,它是一種接受模擬電信號后,相應輸出調制的流量和壓力的液壓控制閥。電液伺服閥具有動態響應快、控制精度高、使用壽命長等優點,已廣泛應用于航空、航天、艦船、冶金、化工等領域的電液伺服控制系統中。
液壓伺服閥是構建液壓伺服控制系統的核心元件,因此液壓控制系統書籍會包含電液伺服閥內容
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EMG 對中光源發射器 LIE 1075/230/50
EPC測量單元 EVK2-CP_600.71_L_R_A_Version_02
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EMG LPS600.01 光源發射器
EMG LIC770/01 光源發射器
EMG LIC1075/01 光源發射器
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EMG SV1-10/16/100/1/D 伺服閥
伺服閥 SERVOVENTIL SV1-06/05/210/5
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EMG SV1-10/8/100/6伺服閥
EMG SV1-10/16/100/6 伺服閥
發展過程
電液伺服閥技術誕生是液壓控制技術和液壓控制系統的發展的結果。
液壓控制技術的歷史最早可追溯到公元前240年,當時一位古埃及人發明了人類歷一個液壓伺服系統——水鐘。然而在隨后漫長的歷史階段,液壓控制技術一直裹足不前,直到18世紀末19世紀初,才有一些重大進展。在二戰前夕,隨著工業發展的需要,液壓控制技術出現了突飛猛進地發展,許多早期的控制閥原理及均是這一時代的產物。如:Askania調節器公司及Askania-Werke發明及申請了射流管閥原理的同樣Foxboro發明了噴嘴擋板閥原理的而德國Siemens公司發明了一種具有永磁馬達及接收機械及電信號兩種輸入的雙輸入閥,并開創性地使用在航空領域。
在二戰末期,伺服閥是用螺線管直接驅動閥芯運動的單級開環控制閥。然隨著控制理論的成熟及軍事應用的需要,伺服閥的研制和發展取得了巨大成就。 1946年,英國Tinsiey獲得了兩級閥的;Raytheon和Bell航空發明了帶反饋的兩級閥;MIT用力矩馬達替代了螺線管使馬達消耗的功率更小而線性度更好。1950年,W.C.Moog第一個發明了單噴嘴兩級伺服閥。1953年至1955年間,T.H.Carson發明了機械反饋式兩級伺服閥;W.C.Moog發明了雙噴嘴兩級伺服閥;Wolpin發明了干式力矩馬達,消除了原來浸在油液內的力矩馬達由油液污染帶來的可靠性問題。 1957年R.Atchley利用Askania射流管原理研制了兩級射流管伺服閥。并于1959年研制了三級電反饋伺服閥。
1959年2月國外某液壓與氣動雜志對當時的伺服閥情況作了12頁的報道,顯示了當時伺服閥蓬勃發展的狀況。那時生產各種類型的伺服閥的制造商有 20多家。各生產廠家為了爭奪伺服閥生產的霸權地位展開了激烈地競爭?;仡櫄v史,可以看到最終取勝的幾個廠家,大多數生產具有反饋及力矩馬達的兩級伺服閥。我們可以看到1960年的伺服閥已具有現代伺服閥的許多特點。如:第二級對第一級反饋形成閉環控制;采用干式力矩馬達;前置級對功率級的壓力恢復通常可達到50%;第一級的機械對稱結構減小了溫度、壓力變化對零位的影響。同時,由早期的直動型開環控制閥發展變化而來的直動型兩級閉環控制伺服閥也已出現。當時的伺服閥主要用于軍事領域,隨著太空時代的到來,伺服閥又被廣泛用于航天領域,并研制出高可靠性的多余度伺服閥等產品。